Arradiance GEMStar™, un nouveau système de dépôt de couches atomiques (ALD) puissant de format paillasse

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Arradiance GEMStar™, un nouveau système de dépôt de couches atomiques (ALD) puissant de format paillasse
lundi 21 juin 2010Description
Arradiance a annoncé aujourd'hui le lancement de son nouveau système de dépôt de couches atomiques (ALD) puissant de format paillasse, GEMStar™, esimultanément avec le début de la réunion annuelle sur le dépôt de couches atomiques organisée par l'American Vacuum Society à Séoul, en Corée, où le Dr Philippe de Rouffignac, principal scientifique des matériaux chez Arradiance, a été invité à s'exprimer sur le sujet suivant : « L'ALD du SnO2 comme composant actif d'un détecteur direct à neutrons rapides en plastique basé sur microcanal ».

Le GEMStar, pour lequel Arradiance a déjà reçu de nombreuses commandes émanant de centres de recherche majeurs, peut être utilisé pour déposer de fines couches de matériau sur quasiment n'importe quel substrat ; il a été conçu avec le ratio d'aspect élevé le plus exigeant et en ayant tenant compte des applications de dépôt dans les pores.

«A partir de notre travail avec des structures microcanal sensibles à ratio d'aspect élevé, nous avons réellement pris conscience de la nécessité de disposer d'un système dans lequel il nous est possible de déposer des films de nanolaminates complexes de manière répétitive, uniforme et efficace».

Le système GEMStar intègre la capacité de traiter des wafers de 15cm ou des solides jusqu'à 2,54cm de profondeur, avec l'espace nécessaire pour 8 précurseurs au maximum, dans un format minuscule de 78 x 61 x 28cm, sans sacrifier la maintenabilité ni la qualité de film. Le système comporte également un port pour dispositif de métrologie in situ optionnel, une fonction optionnelle d'assistance azote, une capacité d'utiliser des précurseurs chauffés et une valve MFC embarquée. Le logiciel GEMFlow™d'Arradiance, robuste et convivial, ainsi que cinq formules pré-qualifiées sont fournis en standard.

« A partir de notre travail avec des structures microcanal sensibles à ratio d'aspect élevé, nous avons réellement pris conscience de la nécessité de disposer d'un système dans lequel il nous est possible de déposer des films de nanolaminates complexes de manière répétitive, uniforme et efficace », explique le Dr de Rouffignac.

« En discutant avec des acteurs majeurs du secteur, nous avons également compris que la taille du système, son prix, sa flexibilité concernant les dimensions de wafer et la disponibilité de précurseur constituent également des critères essentiels pour répondre aux besoins du marché de la R&D ».

David Beaulieu, Directeur général d'Arradiance, ajoute : « Nous avons appris à partir de nos propres applications qu'une conception uniforme et le contrôle des paramètres sont fondamentaux pour la réussite du développement. Notre réacteur unique, le manifold précurseur chauffé et le système de fourniture de gaz multicanal, avec des commandes de chauffage de précurseur individuelles, nous confèrent la puissance et la flexibilité nécessaires pour traiter tout film complexe ».

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